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什么是蝕刻?

信息來源于:互聯網 發布于:2019-08-06

蝕刻其基本原理是利用化學感光材料的光敏特性, 在基體金屬基片兩面均勻涂敷感光材料采用光刻方法, 將膠膜板上柵網產顯形狀精確地復制到金屬基片兩面的感光層掩膜上通過顯影去除未感光部分的掩膜, 蝕刻將裸露的金屬部分在后續的加工中與腐蝕液直接噴壓接觸而被蝕除, 最終獲取所需的幾何形狀及高精度尺寸的產品技術蝕刻技術。

蝕刻一共有兩大類:1:干式蝕刻;2:濕式蝕刻。

最早

蝕刻技術是利用特定的溶液與薄膜間所進行的化學反應來去除薄膜未被光阻覆蓋的部分,而達到蝕刻的目的,這種蝕刻方式也就是所謂的濕式蝕刻。因為濕式蝕刻是利用化學反應來進行薄膜的去除,而化學反應本身不具方向性,因此濕式蝕刻過程為等向性,一般而言此方式不足以定義3微米以下的線寬,但對于3微米以上的線寬定義濕式蝕刻仍然為一可選擇采用的技術。

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